Kaplan, J., & Daniel, V. (1984). Možnosti aplikace mikroelektronických obvodů s nejvyšším stupněm integrace. Ústředí vědeckých, technických a ekonomických informací.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Cita Chicago Style (17a ed.)
Kaplan, Jiří, y Vladimír Daniel. Možnosti Aplikace Mikroelektronických Obvodů S Nejvyšším Stupněm Integrace. Praha: Ústředí vědeckých, technických a ekonomických informací, 1984.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Cita MLA (9a ed.)
Kaplan, Jiří, y Vladimír Daniel. Možnosti Aplikace Mikroelektronických Obvodů S Nejvyšším Stupněm Integrace. Ústředí vědeckých, technických a ekonomických informací, 1984.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.