Ordover, J. <A> patent system for both diffusion and exclusion.
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Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)
Ordover, J.A. <A> Patent System for Both Diffusion and Exclusion.
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MLA-Zitierstil (9. Ausg.)
Ordover, J.A. <A> Patent System for Both Diffusion and Exclusion.
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