Franta, M., Harmatha, L., & Rosová, A. (2007). Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI.
Kopírovanie bolo úspešné
Kopírovanie sa nepodarilo
Citácia podle Chicago (17th ed.)
Franta, Marek, Ladislav Harmatha, a Alica Rosová. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Kopírovanie bolo úspešné
Kopírovanie sa nepodarilo
Citácia podľa MLA (8th ed.)
Franta, Marek, et al. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI, 2007.
Kopírovanie bolo úspešné
Kopírovanie sa nepodarilo
Upozornenie: Tieto citáce sú generované automaticky. Nemusia byť úplne správne podľa citačných pravidiel..