Franta, M., Harmatha, L., & Rosová, A. (2007). Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
Chicago Style (17th ed.) Citation
Franta, Marek, Ladislav Harmatha, and Alica Rosová. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
MLA (9th ed.) Citation
Franta, Marek, et al. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI, 2007.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
Warning: These citations may not always be 100% accurate.