Franta, M., Harmatha, L., & Rosová, A. (2007). Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI.
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Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)
Franta, Marek, Ladislav Harmatha, und Alica Rosová. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
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MLA-Zitierstil (9. Ausg.)
Franta, Marek, et al. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI, 2007.
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