Cita APA (7a ed.)
Franta, M., Harmatha, L., & Rosová, A. (2007). Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI.
Cita Chicago Style (17a ed.)
Franta, Marek, Ladislav Harmatha, y Alica Rosová. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Cita MLA (9a ed.)
Franta, Marek, et al. Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy Dielektrických Tenkých Vrstiev S Vysokou Permitivitou Určených Pre Moderné CMOS štruktúry. STU v Bratislave FEI, 2007.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.