Kmeť, A., Harmatha, L., & Kováč, P. (2007). Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou. STU v Bratislave FEI.
Erfolgreich in die Zwischenablage kopiert
Kopieren in die Zwischenablage fehlgeschlagen
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)
Kmeť, Adam, Ladislav Harmatha, und Peter Kováč. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Erfolgreich in die Zwischenablage kopiert
Kopieren in die Zwischenablage fehlgeschlagen
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)
Kmeť, Adam, et al. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. STU v Bratislave FEI, 2007.
Erfolgreich in die Zwischenablage kopiert
Kopieren in die Zwischenablage fehlgeschlagen
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.