Kmeť, A., Harmatha, L., & Kováč, P. (2007). Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou. STU v Bratislave FEI.
Copié avec succès vers le presse-papier
Échec de la copie vers le presse-papier
Style de citation Chicago (17e éd.)
Kmeť, Adam, Ladislav Harmatha, et Peter Kováč. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Copié avec succès vers le presse-papier
Échec de la copie vers le presse-papier
Style de citation MLA (9e éd.)
Kmeť, Adam, et al. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. STU v Bratislave FEI, 2007.
Copié avec succès vers le presse-papier
Échec de la copie vers le presse-papier
Attention : ces citations peuvent ne pas être correctes à 100%.