Hudák, E., Harmatha, L., & Ťapajna, M. (2008). Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom. STU v Bratislave FEI.
Kopírovanie bolo úspešné
Kopírovanie sa nepodarilo
Citácia podle Chicago (17th ed.)
Hudák, Erik, Ladislav Harmatha, a Milan Ťapajna. Vplyv Techniky Depozície Ru a RuO2 Kovových Hradiel Na Elektrické Vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 Hradlovýcm Dielektrikom. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2008.
Kopírovanie bolo úspešné
Kopírovanie sa nepodarilo
Citácia podľa MLA (8th ed.)
Hudák, Erik, et al. Vplyv Techniky Depozície Ru a RuO2 Kovových Hradiel Na Elektrické Vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 Hradlovýcm Dielektrikom. STU v Bratislave FEI, 2008.
Kopírovanie bolo úspešné
Kopírovanie sa nepodarilo
Upozornenie: Tieto citáce sú generované automaticky. Nemusia byť úplne správne podľa citačných pravidiel..