Kuruc, M., Hulényi, L., & Kinder, R. (2009). Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby: Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9. STU v Bratislave FEI.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Cita Chicago Style (17a ed.)
Kuruc, Marián, Ladislav Hulényi, y Rudolf Kinder. Application of Spreading Resistence Profiling for Monitoring of Semiconductor Technological Processes = Využitie Metódy Rozptylového Odporu Na Monitorovanie Technologických Procesov Polovodičovej Výroby: Dát. Obhaj. 25.02.2010, č. Ved. Odb. 26-13-9. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2009.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Cita MLA (9a ed.)
Kuruc, Marián, et al. Application of Spreading Resistence Profiling for Monitoring of Semiconductor Technological Processes = Využitie Metódy Rozptylového Odporu Na Monitorovanie Technologických Procesov Polovodičovej Výroby: Dát. Obhaj. 25.02.2010, č. Ved. Odb. 26-13-9. STU v Bratislave FEI, 2009.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.