Kuruc, M., Hulényi, L., & Kinder, R. (2009). Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby: Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9. STU v Bratislave FEI.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
Citação norma Chicago
Kuruc, Marián, Ladislav Hulényi, and Rudolf Kinder. Application of Spreading Resistence Profiling for Monitoring of Semiconductor Technological Processes = Využitie Metódy Rozptylového Odporu Na Monitorovanie Technologických Procesov Polovodičovej Výroby: Dát. Obhaj. 25.02.2010, č. Ved. Odb. 26-13-9. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2009.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
Citação norma MLA
Kuruc, Marián, et al. Application of Spreading Resistence Profiling for Monitoring of Semiconductor Technological Processes = Využitie Metódy Rozptylového Odporu Na Monitorovanie Technologických Procesov Polovodičovej Výroby: Dát. Obhaj. 25.02.2010, č. Ved. Odb. 26-13-9. STU v Bratislave FEI, 2009.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
Nota: a formatação da citação pode não corresponder 100% ao definido pela respectiva norma.