-
Molekulárna zväzková epitaxia a analyzačná technika RHEED: teória a simulácia = Molecular beam epitaxy and RHEDD technique: theory and simulation : Dizertačná práca : Obh. 16.01.1997 /
-
Semiconductor interfaces, microstructures and devices: properties and applications /
-
Meranie a analýza vlastností organických poľom riadených tranzistorov
-
Thermal degradation of ZnO/InP interfaces: heteroepitaxial growth of precipitated indium on InP {111} planes = Tepelná degradácia rozhraní ZnO/InP" preferovaný rast precipitovaného india na rovinách InP {111} : Diz.práca : Obh. 03.07.1996 /
-
Proceedings of the 7th Czecho-Slovak conference on thin films : Konf. Liptovský Mikuláš, 14.- 18. June 1993 : Obs. Zv.1:, s.1-178. Zv.2:, s.179-368 /
-
Tenké vrstvy nitridov a oxidov kovov pre aplikácie v mikroelektronike a senzorike : Obhaj. 8.2.2005
-
The Materials Science of Thin Films /
-
Metódy vytvárania tenkých vrstiev
-
Tenké vrstvy pre medicínske aplikácie : č.ved.odb. 26-13-9, dát. obhaj. 17.12.2008
-
Dusíkom dopované tenké vrstvy oxidu zinku pripravené VF diódovým naprašovaním : č.ved.odb. 5-2-13. Obhaj. 12.12.2007
-
Naprašované tenké vrstvy ZnO:Al, Ga, Sc
-
Príprava a štúdium vlastností tenkých vrstiev manganitov a heteroštruktúr izolant/manganit pripravených metódou MOCVD
-
Príprava a vlastnosti homo- a heteropriechodov na báze InP pre optoelektroniku : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 22.09.1983 /
-
Mikroštruktúra nanokryštalických zliatin typu NANOPERM (Fe1-xCox)76Mo8Cu1B15 v závislosti od pomeru Fe:Co
-
Thin Film Materials : Stress, Defect Formation and Surface Evolution
-
Optimalizácia dávkovania kvapalného prekurzora pre prípravu tenkých vrstiev metódou MOCVD
-
Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry
-
Tenké vrstvy, príprava a technické aplikácie : Odborný seminár : Konf. Bratislava. 5.decembra 1996
-
Optimalizácia senzorických vlastností naprašovaných tenkých vrstiev : Obhaj. 7.4.2005, čís.ved.odb. 26-13-9
-
Príprava a vlastnosti tenkých oxidových supravodivých vrstiev na báze TI a možnosti ich aplikácie v oblasti kryoelektroniky : č.ved.odb. 5-2-48. Obhaj. 22.9.2010
-
Tvrdé a supertvrdé vrstvy na báze titánu : Dizertačná práca
-
Thin Film Analysis by X-Ray Scattering /
-
Príprava a charakterizácia heteroštruktúr supravodič-feromagnetikum-supravodič
-
Depozícia tenkých vrstiev využitím magnetrónového naprašovania a dutej katódy