-
The Materials Science of Thin Films /
-
Proceedings of the 7th Czecho-Slovak conference on thin films : Konf. Liptovský Mikuláš, 14.- 18. June 1993 : Obs. Zv.1:, s.1-178. Zv.2:, s.179-368 /
-
Thin Film Analysis by X-Ray Scattering /
-
Thin film technology handbook
-
Zinc Oxide Bulk, Thin Films and Nanostructures : Processing, Properties and Applications /
-
High-Tc superconductivity: thin films and devices : Konf. Newposrt Beach, California, 16.- 17. March 1988 /
-
Characterization of rubrene thin films by optical techniques = Charakterizácia tenkých vrstiev optickými metódami : Čís.ved.odb. 26-13-9, Dát. obhaj. 09-07-2009
-
Langmuir-Blodgettovej vrstvy elektrické vlastnosti : Obhajoba 06.02.2001
-
Surface and Interface Analysis : ECASIA 91 : Konf. Proceedings of the European Coference on Aplications of Surface and Interface Analysis, Budapest, Hungary, 14.- 18. Oct. 1991
-
Metallurgical coatings 1987 : Proceedings : Konf. San Diego, USA, 23.- 27. March 1987 /
-
Preparation and properties the mercury based thin films of very high Tc superconductors and their possible application in cryoelectronics : Obh.: 27.9.2007, V.odb. 26-35-9
-
Introduction to Surface Engineering and Functionally Engineered Materials
-
Tenké vrstvy nitridov a oxidov kovov pre aplikácie v mikroelektronike a senzorike : Obhaj. 8.2.2005
-
Metódy vytvárania tenkých vrstiev
-
Langmuirove vrstvy chlorofylu a: modelové systémy fotosyntézy
-
Naprašované tenké vrstvy ZnO:Al, Ga, Sc
-
Tenké vrstvy pre medicínske aplikácie : č.ved.odb. 26-13-9, dát. obhaj. 17.12.2008
-
Dusíkom dopované tenké vrstvy oxidu zinku pripravené VF diódovým naprašovaním : č.ved.odb. 5-2-13. Obhaj. 12.12.2007
-
Príprava a štúdium vlastností tenkých vrstiev manganitov a heteroštruktúr izolant/manganit pripravených metódou MOCVD
-
Diamond films and coatings : Development, properties, and applications /
-
Možnosti zvýšenia tvrdosti povrchu nástrojových ocelí = Possibilities of Increasing of Surface Hardness of Tool Steels : Bakalárska práca
-
Mikroštruktúra nanokryštalických zliatin typu NANOPERM (Fe1-xCox)76Mo8Cu1B15 v závislosti od pomeru Fe:Co
-
Optimalizácia dávkovania kvapalného prekurzora pre prípravu tenkých vrstiev metódou MOCVD
-
Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry