Chemical Process Design and Simulation Aspen Plus and Aspen HYSYS Applications

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor principal: Haydari, Juma
Formato: Libro
Lenguaje:inglés
Publicado: Hoboken John Wiley & Sons, Inc. 2019
Edición:1. vyd.
Colección:AiChE
Acceso en línea:Ver en el OPAC
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

Ver en el OPAC

Knižnica chemického a biochemického inžinierstva (XVIII)

Detalle de Existencias desde Knižnica chemického a biochemického inžinierstva (XVIII)
Número de Clasificación: schkA2019/102052
schkA2019/102053
schkA2019/102054
schkA2019/102055
schkA2019/102056
schkA2019/102057
schkA2019/102058
schkA2019/102059
schkA2019/102060
schkA2019/102061
schkA2019/102062
schkA2019/102063
schkA2019/102064
schkA2019/102065
schkA2019/102066
schkA2019/102067
schkA2019/102068
schkA2019/102069
schkA2019/102070
schkA2019/102071
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné

Knižnica informatizácie a riadenia procesov (XVI)

Detalle de Existencias desde Knižnica informatizácie a riadenia procesov (XVI)
Número de Clasificación: schkA2019/102281
schkA2019/102282
Copia Nevypožičateľné
Copia Nevypožičateľné