Charakterizácia štruktúr MIS s veľmi tenkými izolačnými vrstvami
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Ďalší autori: | , |
| Médium: | Rukopis Kniha |
| Jazyk: | Slovak |
| Vydavateľské údaje: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2005
|
| Predmet: | |
| Tagy: |
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky: Charakterizácia štruktúr MIS s veľmi tenkými izolačnými vrstvami
- Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou
- Charakterizácia elektrických vlastností štruktúr MOS s tenkými dielektrickými vrstvami s vysokou dielektrickou konštantou
- Charakterizácia štruktúr MIS s oxidom ytria
- Nestabilitní jevy v soustavách s tenkými dielektrickými vrstvami : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 10.05.1970 /
- Elektrická charakterizácia vlastností štruktur MOS s veľmi tenkým oxidom
- Analýza prúdovo-napäťových charakteristík štruktúr MOS s tenkými dielektrickýcmi vrstvami s vysokou dielektrickou konštatantou