Ion Implantation, sputtering and their applications

Uložené v:
Podrobná bibliografia
Hlavní autori: Townsend, P.D (Autor), Kelly, J.C (Autor), Hartley, N.E.W (Autor)
Médium: Kniha
Jazyk:English
Vydavateľské údaje: London : Academic Press, 1976
Tagy: Pridať tag
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!

MARC

LEADER 00000nam a22000003a 4500
001 stu223331
005 20150617230120.0
008 110331s1976----uk------------------eng-d
040 |a STU  |b slo 
041 0 |a eng 
044 |a uk 
080 |a 537.57 
100 1 |a Townsend, P.D.  |4 aut 
245 1 |a Ion Implantation, sputtering and their applications 
260 |a London :  |b Academic Press,  |c 1976 
300 |a 9, 333 s 
700 1 |a Kelly, J.C.  |4 aut 
700 1 |a Hartley, N.E.W  |4 aut 
996 |b E37382  |c E*37382  |l EE11  |s P  |a 0  |w stu223331_0001