Elektrofyzikálne vlastnosti štruktúr MOS s implantovaným substrátom : Kand.diz.práca : V.odb. 26-11-9 : Obh. 14.04.1992 /

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Botka, Vladimír (Verfasst von)
Weitere Verfasser:	Csabay, Otto, 1937- (Betreuung Doktorarbeit)
Format:	Manuskript Buch
Veröffentlicht:	Bratislava : SVŠT v Bratislave EF, 1991
Schlagworte:	parametre štruktúry MOS kremíková doska výroba integrovaných obvodov
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie das erste Tag hinzu!

View in STU Opac

MARC


LEADER	00000ntm a22000003a 4500
001	stu4281
005	20150617225810.2
008	------s1991----------------------------d
040			\|a STU \|b slo
041	0
100	1		\|a Botka, Vladimír \|4 aut
245	1		\|a Elektrofyzikálne vlastnosti štruktúr MOS s implantovaným substrátom : \|b Kand.diz.práca : V.odb. 26-11-9 : Obh. 14.04.1992 / \|c [aut.] Botka,Vladimír, Ing.; Škol. Csabay,Otto
260			\|a Bratislava : \|b SVŠT v Bratislave EF, \|c 1991
300			\|a 115 s \|c Autoref.1991, 20 s
650		7	\|a parametre štruktúry MOS \|2 stusub
650		7	\|a kremíková doska \|2 stusub
650		7	\|a výroba integrovaných obvodov \|2 stusub
700	1		\|a Csabay, Otto, \|d 1937- \|4 ths \|u E210 \|U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky \|T FEI Katedra mikroelektroniky \|X 3574 \|U E210 \|Y 68 \|7 A000003574
996			\|b 284ED00138 \|c E*KDIZ-673 \|l EE01 \|s A \|a 24 \|w stu4281_0001