Základní procesy růstu monokrystalů pro optoelektroniku
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Book |
| Language: | Czech |
| Published: |
Praha :
Academia,
2003
|
| Subjects: | |
| Tags: |
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Similar Items: Základní procesy růstu monokrystalů pro optoelektroniku
- Príprava a vlastnosti homo- a heteropriechodov na báze InP pre optoelektroniku : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 22.09.1983 /
- Properties of III - V quantum wells and superlattices
- Properties of gallium arsenide
- Molekulárna zväzková epitaxia a analyzačná technika RHEED: teória a simulácia = Molecular beam epitaxy and RHEDD technique: theory and simulation : Dizertačná práca : Obh. 16.01.1997 /
- Third Bratislava days on molecular beam epitaxy : International Worshop : Konf. MBE, Bratislava, Slovak Republic, 16.- 17. May 1996 /
- Semiconductor technologies