Využitie nanotechnológií pre výrobu optoelektronických prvkov s rozmermi pod difrakčným limitom : dát. obhajoby 27.8.2020
Salvato in:
| Autore principale: | |
|---|---|
| Altri autori: | |
| Natura: | Manoscritto Libro |
| Lingua: | slovacco |
| Pubblicazione: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2020
|
| Soggetti: | |
| Accesso online: | http://is.stuba.sk/zp/portal_zp.pl?podrobnosti=137892 |
| Tags: |
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!
|
MARC
| LEADER | 00000ntm a22000003a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | stuzp59976 | ||
| 003 | SK-STU | ||
| 005 | 20230413105406.3 | ||
| 007 | ta | ||
| 008 | 150427s2015----xo-----f-mn---000-0-slo-d | ||
| 040 | |a STU |b slo | ||
| 041 | 0 | |a slo | |
| 044 | |a xo | ||
| 100 | 1 | |a Nevřela, Juraj |u 033000 |k Z2 |4 aut |U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky |T FEI Ústav elektroniky a fotoniky |X 70100 |U E030 |Y 549 |7 A000070100 | |
| 242 | 0 | 1 | |a Exploitation of Nanotechnologies for Optoelectronic Devices Fabrication with Dimensions under Difraction Limit |y eng |
| 245 | 1 | 0 | |a Využitie nanotechnológií pre výrobu optoelektronických prvkov s rozmermi pod difrakčným limitom : |b dát. obhajoby 27.8.2020 |
| 260 | |a Bratislava : |b STU v Bratislave FEI, |c 2020 | ||
| 300 | |a 78 s., |b AUTOREF. 2020, 34 s. | ||
| 650 | 4 | |a Nanoimprint litografia |2 slo | |
| 650 | 4 | |a Nanotechnológie |2 slo | |
| 650 | 4 | |a Nano-štruktúry |2 slo | |
| 650 | 4 | |a Nanoimprint lithography |2 eng | |
| 650 | 4 | |a Nanotechnology |2 eng | |
| 650 | 4 | |a Nanostructures |2 eng | |
| 700 | 1 | |a Kováč, Jaroslav |u 033000 |k Z1 |4 ths |U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky |T FEI Ústav elektroniky a fotoniky |X 42526 |U E030 |Y 549 |7 A000042526 | |
| 856 | 4 | |u http://is.stuba.sk/zp/portal_zp.pl?podrobnosti=137892 | |
| 996 | |b 284ED01646 |c E*ZP-509 |l EE01 |s A |a 24 |w stuzp59976_0001 | ||