Chemical Process Design and Simulation Aspen Plus and Aspen HYSYS Applications
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Format: | Livre |
| Langue: | anglais |
| Publié: |
Hoboken
John Wiley & Sons, Inc.
2019
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| Édition: | 1. vyd. |
| Collection: | AiChE
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| Accès en ligne: | Voir à l'OPAC |
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