Chemical Process Design and Simulation Aspen Plus and Aspen HYSYS Applications
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Format: | Livre |
| Langue: | anglais |
| Publié: |
Hoboken
John Wiley & Sons, Inc.
2019
|
| Édition: | 1. vyd. |
| Collection: | AiChE
|
| Accès en ligne: | Voir à l'OPAC |
| Tags: |
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
| Description matérielle: | xliv, 391 s. obr., tab., 28 cm |
|---|---|
| ISBN: | 9781119089117 |