Optimalizácia dávkovania kvapalného prekurzora pre prípravu tenkých vrstiev metódou MOCVD
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Ďalší autori: | , |
| Médium: | Rukopis Kniha |
| Jazyk: | Slovak |
| Vydavateľské údaje: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2008
|
| Predmet: | |
| Tagy: |
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky: Optimalizácia dávkovania kvapalného prekurzora pre prípravu tenkých vrstiev metódou MOCVD
- Optimalizácia senzorických vlastností naprašovaných tenkých vrstiev : Obhaj. 7.4.2005, čís.ved.odb. 26-13-9
- Depozícia tenkých vrstiev využitím magnetrónového naprašovania a dutej katódy
- Štruktúrna charakterizácia nanokompozitných tenkých vrstiev : Č. ved. odb. Dát. obhaj.
- Príprava a štúdium vlastností tenkých vrstiev manganitov a heteroštruktúr izolant/manganit pripravených metódou MOCVD
- Characterization of rubrene thin films by optical techniques = Charakterizácia tenkých vrstiev optickými metódami : Čís.ved.odb. 26-13-9, Dát. obhaj. 09-07-2009
- Metódy vytvárania tenkých vrstiev