Depozícia tenkých vrstiev využitím magnetrónového naprašovania a dutej katódy
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Ďalší autori: | |
| Médium: | Rukopis Kniha |
| Jazyk: | Slovak |
| Vydavateľské údaje: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2009
|
| Predmet: | |
| Tagy: |
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky: Depozícia tenkých vrstiev využitím magnetrónového naprašovania a dutej katódy
- Naprašovanie transparentných vodivých tenkých vrstiewv oxidov Zn : Dát. obhaj22.6.2010, č. ved. odb. 5-2-13
- Optimalizácia dávkovania kvapalného prekurzora pre prípravu tenkých vrstiev metódou MOCVD
- Optimalizácia senzorických vlastností naprašovaných tenkých vrstiev : Obhaj. 7.4.2005, čís.ved.odb. 26-13-9
- Štruktúrna charakterizácia nanokompozitných tenkých vrstiev : Č. ved. odb. Dát. obhaj.
- Naprašované tenké vrstvy ZnO:Al, Ga, Sc
- Characterization of rubrene thin films by optical techniques = Charakterizácia tenkých vrstiev optickými metódami : Čís.ved.odb. 26-13-9, Dát. obhaj. 09-07-2009