Photoreactive polymers : The science and technology of resists /
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| Autore principale: | |
|---|---|
| Natura: | Libro |
| Lingua: | inglese |
| Pubblicazione: |
New York :
John Wiley & Sons,
1989
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|
MARC
| LEADER | 00000nam a22000003a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | stu2011 | ||
| 005 | 20190206124359.9 | ||
| 008 | 920616s1989----xxu-----------------eng-d | ||
| 040 | |a STU |b slo | ||
| 041 | 0 | |a eng | |
| 044 | |a xxu | ||
| 080 | |a 621.382.049.7 | ||
| 080 | |a 541.64 | ||
| 080 | |a 535.215 | ||
| 080 | |a 538.97 |7 stu_us_auth*stu8133 | ||
| 100 | 1 | |a Reiser, Arnost |4 aut | |
| 245 | 1 | |a Photoreactive polymers : |b The science and technology of resists / |c [aut.] Reiser,Arnost | |
| 260 | |a New York : |b John Wiley & Sons, |c 1989 | ||
| 300 | |a 409 s | ||
| 996 | |b E70735 |c E*70735 |l EE11 |s P |a 0 |w stu2011_0001 | ||