AFM a jeho využitie pri štúdiu povrchov A3B5 polovodičov

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Ščepka, Tomáš, 1985- (Verfasst von)
Weitere Verfasser:	Škriniarová, Jaroslava, 1954- (Betreuung Doktorarbeit)
Format:	Manuskript Buch
Sprache:	Slowakisch
Veröffentlicht:	Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2010
Schlagworte:	ZnO atómový silový mikroskop Mikroelektronika
Online-Zugang:	VAIS
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie das erste Tag hinzu!

View in STU Opac

MARC


LEADER	00000ntm a22000003a 4500
001	stu209134
005	20150617230103.4
008	100818s2010------------------------slo-d
040			\|a STU \|b slo
041	0		\|a slo
100	1		\|a Ščepka, Tomáš, \|d 1985- \|4 aut \|u E \|T FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky \|X 23201 \|U E \|Y 30 \|7 A000023201
242	0	0	\|a AFM and its use in studying the surfaces of the semiconductors A3B5 \|y eng
245	1		\|a AFM a jeho využitie pri štúdiu povrchov A3B5 polovodičov
260			\|a Bratislava : \|b STU v Bratislave FEI, \|c 2010
300			\|a 74 s
650		7	\|a ZnO \|2 stusub
650		7	\|a atómový silový mikroskop \|2 stusub
650		7	\|a ZnO \|2 stusub
650		7	\|a Mikroelektronika \|2 stusub
700	1		\|a Škriniarová, Jaroslava, \|d 1954- \|4 ths \|u E030 \|U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky \|T FEI Ústav elektroniky a fotoniky \|X 1866 \|U E030 \|Y 549 \|7 A000001866
856	4		\|a info a plný text \|u http://is.stuba.sk/zp/portal_zp.pl?podrobnosti=61396 \|3 VAIS