Príprava a vlastnosti tenkých oxidových supravodivých vrstiev na báze TI a možnosti ich aplikácie v oblasti kryoelektroniky : č.ved.odb. 5-2-48. Obhaj. 22.9.2010
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Weitere Verfasser: | |
| Format: | Manuskript Buch |
| Sprache: | Slowakisch |
| Veröffentlicht: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2010
|
| Schlagworte: | |
| Tags: |
Keine Tags, Fügen Sie das erste Tag hinzu!
|
| Beschreibung: | 111 s príl. |
|---|