Príprava a vlastnosti tenkých oxidových supravodivých vrstiev na báze TI a možnosti ich aplikácie v oblasti kryoelektroniky : č.ved.odb. 5-2-48. Obhaj. 22.9.2010
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Autres auteurs: | |
| Format: | Manuscrit Livre |
| Langue: | slovaque |
| Publié: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2010
|
| Sujets: | |
| Tags: |
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|