Optimalizácia elektrónovej litografie na prípravu nanoštruktúr pre vybrané senzorové aplikácie

Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Autore principale: Vajda, Matúš (Autore)
Altri autori: Pavúk, Milan (Relatore della tesi)
Natura: Manoscritto Libro
Lingua:slovacco
Pubblicazione: Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2023
Soggetti:
Accesso online:https://opac.crzp.sk/?fn=detailBiblioFormChildA85TG&sid=C03CB0FBA6588971DE3F23D1B6BF&seo=CRZP-detail-kniha
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!

MARC

LEADER 00000ntm a22000003a 4500
001 stuzp89650
003 SK-STU
005 20241125142348.5
007 ta
008 150427s2015----xo-----f-mn---000-0-slo-d
040 |a STU  |b slo 
041 0 |a slo 
044 |a xo 
100 1 |a Vajda, Matúš  |u 036000  |4 aut  |U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky  |T FEI Ústav jadrového a fyzikálneho inžinierstva  |X 98246  |U E060  |Y 817  |7 98246 
242 0 1 |a Optimization of electron lithography for the preparation of nanostructures for selected sensor applications  |y eng 
245 1 0 |a Optimalizácia elektrónovej litografie na prípravu nanoštruktúr pre vybrané senzorové aplikácie 
260 |a Bratislava :  |b STU v Bratislave FEI,  |c 2023 
300 |a 67 s. 
650 4 |a Jednofotónový detektor  |2 slo 
650 4 |a Skenovací elektrónový mikroskop  |2 slo 
650 4 |a Suché leptanie  |2 slo 
650 4 |a Elektrónová litografia  |2 slo 
650 4 |a Nanodrôt  |2 slo 
650 4 |a Single-photon detector  |2 eng 
650 4 |a Electron-beam lithography  |2 eng 
650 4 |a Nanowire  |2 eng 
650 4 |a Scanning electron microscope  |2 eng 
650 4 |a Dry etching  |2 eng 
700 1 |a Pavúk, Milan  |u 036000  |k Z2  |4 ths  |U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky  |T FEI Ústav jadrového a fyzikálneho inžinierstva  |X 10210  |U E060  |Y 817  |7 A000010210 
856 4 |u https://opac.crzp.sk/?fn=detailBiblioFormChildA85TG&sid=C03CB0FBA6588971DE3F23D1B6BF&seo=CRZP-detail-kniha