<A> patent system for both diffusion and exclusion.

Analýza optimálneho patentového režimu. Slabá a silná ochrana patentov a striktná antitrustová politika. Návrh patentového práva pre spoluprácu. Japonský patentový systém - rozdiel medzi US, EHS a japonským patentovým systémom. Licencie. Autorské honoráre. Výskumné joint ventures a výskumné konzorci...

Descrizione completa

Salvato in:
Autore principale: Ordover, J.A
Natura: Capitolo di libro
Lingua:inglese
Soggetti:
patenty
ochrana vlastníctva
právo priemyselné
licencie
honoráre
výskum
joint ventures
podnik spoločný
USA
Japonsko
Európske spoločenstvá
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!

MARC

LEADER 00000naa a2200000 4500
001 r004165
005 20221213084225.5
041 0 |a eng 
044 |a US 
245 1 0 |a <A> patent system for both diffusion and exclusion.  |c J.A. Ordover 
520 |a Analýza optimálneho patentového režimu. Slabá a silná ochrana patentov a striktná antitrustová politika. Návrh patentového práva pre spoluprácu. Japonský patentový systém - rozdiel medzi US, EHS a japonským patentovým systémom. Licencie. Autorské honoráre. Výskumné joint ventures a výskumné konzorciá. Spolupráca vo výskume a rozvoji. 
610 2 0 |a patenty 
610 2 0 |a ochrana vlastníctva 
610 2 0 |a právo priemyselné 
610 2 0 |a licencie 
610 2 0 |a honoráre 
610 2 0 |a výskum 
610 2 0 |a joint ventures 
610 2 0 |a podnik spoločný 
610 2 0 |a USA 
610 2 0 |a Japonsko 
610 2 0 |a Európske spoločenstvá 
100 1 |a Ordover, J.A. 

Documenti analoghi