Návrh optimálneho režimu tuhnutia taveniny pri výrobe kryštálov InP
Na minha lista:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Livro |
| Idioma: | eslovaco |
| Publicado em: |
Bratislava
STU FCHPT
2006
|
| Acesso em linha: | View in OPAC |
| Tags: |
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
|
Registos relacionados: Návrh optimálneho režimu tuhnutia taveniny pri výrobe kryštálov InP
- Návrh teplotného režimu chladenia taveniny pri výrobe kryštálov
- Thermal degradation of ZnO/InP interfaces: heteroepitaxial growth of precipitated indium on InP {111} planes = Tepelná degradácia rozhraní ZnO/InP" preferovaný rast precipitovaného india na rovinách InP {111} : Diz.práca : Obh. 03.07.1996 /
- Charakterizácia fotodiód na báze InGaAs(P)/InP
- Preladiteľné kryštálové oscilátory - VCXO
- Simulovanie rýchleho tuhnutia pri aplikácii lasera /
- Optoelektronické prvky na báze polovodičových heteroštruktúr InGaAs(P)/InP : Habil.práca : Obh. 12.12.1995 /