Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Franta, Marek (Verfasst von)
Weitere Verfasser:	Harmatha, Ladislav, 1948- (Betreuung Doktorarbeit), Rosová, Alica (Betreuung Doktorarbeit)
Format:	Manuskript Buch
Sprache:	Slowakisch
Veröffentlicht:	Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2007
Schlagworte:	Mikroelektronika tenké vrstvy CMOS
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie das erste Tag hinzu!

View in STU Opac

MARC


LEADER	00000ntm a22000003a 4500
001	stu142698
005	20160719165024.1
008	070626s2007------------------------slo-d
040			\|a STU \|b slo
041	0		\|a slo
100	1		\|a Franta, Marek \|4 aut
245	1		\|a Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry
260			\|a Bratislava : \|b STU v Bratislave FEI, \|c 2007
300			\|a 43 s
650		7	\|a Mikroelektronika \|2 stusub
650		7	\|a tenké vrstvy \|2 stusub
650		7	\|a CMOS \|2 stusub
700	1		\|a Harmatha, Ladislav, \|d 1948- \|4 ths \|u E030 \|U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky \|T FEI Ústav elektroniky a fotoniky \|X 2055 \|U E030 \|Y 549 \|7 A000002055
700	1		\|a Rosová, Alica \|4 ths