Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Hudák, Erik (Verfasst von)
Weitere Verfasser:	Harmatha, Ladislav, 1948- (Betreuung Doktorarbeit), Ťapajna, Milan, 1977- (Betreuung Doktorarbeit)
Format:	Manuskript Buch
Sprache:	Slowakisch
Veröffentlicht:	Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2008
Schlagworte:	elektronika Mikroelektronika
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie das erste Tag hinzu!

View in STU Opac

MARC


LEADER	00000ntm a22000003a 4500
001	stu179757
005	20160719165122.7
008	090210s2008----xo------------------slo-d
040			\|a STU \|b slo
041	0		\|a slo
044			\|a xo
100	1		\|a Hudák, Erik \|4 aut
245	1		\|a Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom
260			\|a Bratislava : \|b STU v Bratislave FEI, \|c 2008
300			\|a 42 s
650		7	\|a elektronika \|2 stusub
650		7	\|a Mikroelektronika \|2 stusub
700	1		\|a Harmatha, Ladislav, \|d 1948- \|4 ths \|u E030 \|U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky \|T FEI Ústav elektroniky a fotoniky \|X 2055 \|U E030 \|Y 549 \|7 A000002055
700	1		\|a Ťapajna, Milan, \|d 1977- \|4 ths \|u E210 \|U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky \|T FEI Katedra mikroelektroniky \|X 47721 \|U E210 \|Y 68 \|7 47721