Príprava tenkých vrstiev Si3N4 plazmatickým, katódovým naprašovaním a analýza ich vlastností : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 20.02.1975 /

Registos relacionados

• Fyzikálne vlastnosti germániových tenkých vrstiev a rozbor podmienok ich prípravy impulzným katódovým naprašovaním : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 14.03.1969 /
  Por: Luby, Štefan
  Publicado em: (1969)
• Rozbor vlastností tenkých kovových vrstiev z hľadiska ich použitia pre elektronické súčiastky a obvody : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 08.03.1979 /
  Por: Vávra, Ivo
  Publicado em: (1978)
• Príprava SiO2 vrstiev v mikrovlnnom kyslíkovom výboji a ich vlastnosti : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 22.01.1976 /
  Por: Hulényi, Ladislav, 1938-
  Publicado em: (1974)
• Fyzikálne vlastnosti termoakceptorov n InSb : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 27.01.1970 /
  Por: Kordoš, Peter, 1939-
  Publicado em: (1969)
• Nové metody měření difusních konstant vhodné pro použití v tenkých vrstvách : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 06.12.1968 /
  Por: Hamerský, Jar
  Publicado em: (1967)