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Statistical Simulation of Random Dopant Induced Threshold Voltage Fluctuations for 35 nm Channel Length MOSFET
Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Autore principale:
Kováč, Urban
Altri autori:
Reid, Dave
,
Millar, Campbell
,
Roy, Gareth
,
Roy, Scott
,
Asenov, Asen
Natura:
Capitolo di libro
Lingua:
inglese
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