Aplikácia Al2O3 dielektrických vrstviev v technológii tranzistorov a heteropriechodom na báze InAlN/GaN : č.ved.odb.: 26-13-9, dát. obhaj. 1.2.2010

Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Autore principale: Čičo, Karol (Autore)
Altri autori: Kuzmík, Ján (Relatore della tesi)
Natura: Manoscritto Libro
Lingua:slovacco
Pubblicazione: Bratislava : Elektrotechnický ústav SAV, 2009
Soggetti:
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!

MARC

LEADER 00000ntm a22000003a 4500
001 stu199830
005 20150617230106.5
008 100217s2007----xo------------------slo-d
040 |a STU  |b slo 
041 0 |a slo 
044 |a xo 
100 1 |a Čičo, Karol  |4 aut 
245 1 |a Aplikácia Al2O3 dielektrických vrstviev v technológii tranzistorov a heteropriechodom na báze InAlN/GaN :  |b č.ved.odb.: 26-13-9, dát. obhaj. 1.2.2010 
260 |a Bratislava :  |b Elektrotechnický ústav SAV,  |c 2009 
300 |a 107 s 
650 7 |a MOS štruktúry  |2 stusub 
650 7 |a tenké vrstvy  |2 stusub 
650 7 |a meranie dielektrických veličín  |2 stusub 
650 7 |a tranzistory  |2 stusub 
700 1 |a Kuzmík, Ján  |4 ths 
996 |b 284ED01264  |c E*ZP-128  |l EE01  |s A  |a 24  |w stu199830_0001