Aplikácia Al2O3 dielektrických vrstviev v technológii tranzistorov a heteropriechodom na báze InAlN/GaN : č.ved.odb.: 26-13-9, dát. obhaj. 1.2.2010

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor principal: Čičo, Karol (Autor)
Otros Autores: Kuzmík, Ján (Orientador)
Formato: Manuscrito Libro
Lenguaje:eslovaco
Publicado: Bratislava : Elektrotechnický ústav SAV, 2009
Materias:
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

MARC

LEADER 00000ntm a22000003a 4500
001 stu199830
005 20150617230106.5
008 100217s2007----xo------------------slo-d
040 |a STU  |b slo 
041 0 |a slo 
044 |a xo 
100 1 |a Čičo, Karol  |4 aut 
245 1 |a Aplikácia Al2O3 dielektrických vrstviev v technológii tranzistorov a heteropriechodom na báze InAlN/GaN :  |b č.ved.odb.: 26-13-9, dát. obhaj. 1.2.2010 
260 |a Bratislava :  |b Elektrotechnický ústav SAV,  |c 2009 
300 |a 107 s 
650 7 |a MOS štruktúry  |2 stusub 
650 7 |a tenké vrstvy  |2 stusub 
650 7 |a meranie dielektrických veličín  |2 stusub 
650 7 |a tranzistory  |2 stusub 
700 1 |a Kuzmík, Ján  |4 ths 
996 |b 284ED01264  |c E*ZP-128  |l EE01  |s A  |a 24  |w stu199830_0001