Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby : Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9

Uložené v:
Podrobná bibliografia
Hlavný autor: Kuruc, Marián (Autor)
Ďalší autori: Hulényi, Ladislav, 1938- (Vedúci práce), Kinder, Rudolf (Vedúci práce)
Médium: Rukopis Kniha
Jazyk:English
Vydavateľské údaje: Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2009
Predmet:
Tagy: Pridať tag
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!

Podobné jednotky: Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby :