Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby : Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9

Salvato in:

Dettagli Bibliografici
Autore principale:	Kuruc, Marián (Autore)
Altri autori:	Hulényi, Ladislav, 1938- (Relatore della tesi), Kinder, Rudolf (Relatore della tesi)
Natura:	Manoscritto Libro
Lingua:	inglese
Pubblicazione:	Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2009
Soggetti:	elektronika rozptylový odpor technologické procesy monitorovanie procesov polovodiče
Tags:	Aggiungi Tag Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!

View in STU Opac

MARC


LEADER	00000ntm a22000003a 4500
001	stu201852
005	20190520111422.0
008	100331s2009----xo------------------eng-d
040			\|a STU \|b slo
041	0		\|a eng
044			\|a xo
100	1		\|a Kuruc, Marián \|4 aut
245	1		\|a Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby : \|b Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9
260			\|a Bratislava : \|b STU v Bratislave FEI, \|c 2009
300			\|a 120 s
650		7	\|a elektronika \|2 stusub
650		7	\|a rozptylový odpor \|2 stusub
650		7	\|a technologické procesy \|2 stusub
650		7	\|a monitorovanie procesov \|2 stusub
650		7	\|a polovodiče \|2 stusub
700	1		\|a Hulényi, Ladislav, \|d 1938- \|4 ths \|u E210 \|U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky \|T FEI Katedra mikroelektroniky \|X 3573 \|U E210 \|Y 68 \|7 A000003573
700	1		\|a Kinder, Rudolf \|4 ths \|X 2115 \|7 A000002115
996			\|b 284ED01266 \|c E*ZP-130 \|l EE01 \|s A \|a 24 \|w stu201852_0001