Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby : Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | , |
| Format: | Manuscript Book |
| Language: | English |
| Published: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2009
|
| Subjects: | |
| Tags: |
No Tags, Be the first to tag this record!
|
MARC
| LEADER | 00000ntm a22000003a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | stu201852 | ||
| 005 | 20190520111422.0 | ||
| 008 | 100331s2009----xo------------------eng-d | ||
| 040 | |a STU |b slo | ||
| 041 | 0 | |a eng | |
| 044 | |a xo | ||
| 100 | 1 | |a Kuruc, Marián |4 aut | |
| 245 | 1 | |a Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby : |b Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9 | |
| 260 | |a Bratislava : |b STU v Bratislave FEI, |c 2009 | ||
| 300 | |a 120 s | ||
| 650 | 7 | |a elektronika |2 stusub | |
| 650 | 7 | |a rozptylový odpor |2 stusub | |
| 650 | 7 | |a technologické procesy |2 stusub | |
| 650 | 7 | |a monitorovanie procesov |2 stusub | |
| 650 | 7 | |a polovodiče |2 stusub | |
| 700 | 1 | |a Hulényi, Ladislav, |d 1938- |4 ths |u E210 |U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky |T FEI Katedra mikroelektroniky |X 3573 |U E210 |Y 68 |7 A000003573 | |
| 700 | 1 | |a Kinder, Rudolf |4 ths |X 2115 |7 A000002115 | |
| 996 | |b 284ED01266 |c E*ZP-130 |l EE01 |s A |a 24 |w stu201852_0001 | ||