Hochdosisimplamtation von Stickstoff in Silizium: Eine Technik zur Erzeugung von dielektrisch isolierten CMOS-Bauelementen mit hoher Integrationsdichte /
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| Auteur principal: | |
|---|---|
| Format: | Livre |
| Langue: | allemand |
| Publié: |
Düsseldorf :
VDI Verlag,
1986
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