Hochdosisimplamtation von Stickstoff in Silizium: Eine Technik zur Erzeugung von dielektrisch isolierten CMOS-Bauelementen mit hoher Integrationsdichte /
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| Main Author: | |
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| Format: | Book |
| Language: | German |
| Published: |
Düsseldorf :
VDI Verlag,
1986
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| Physical Description: | 152 s |
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