Handbook of plasma processing technology : Fundamentals, etching, deposition and surface interactions /
Enregistré dans:
| Autres auteurs: | |
|---|---|
| Format: | Livre |
| Langue: | anglais |
| Publié: |
Park Ridge :
Noyes Publications,
1989
|
| Édition: | 1.vyd. |
| Sujets: | |
| Tags: |
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
Documents similaires: Handbook of plasma processing technology :
- Application of polyimide films in microelectronics = Využitie polyimidových vrstiev v mikroelektronike : V. odb. 26-13-9. Obhajoba 21.11.2001
- Process engineering analysis in semiconductor device fabrication /
- Semiconductor surfaces
- Semiconductor surfaces and interfaces /
- Suché leptanie polovodičov podporované svetelným žiarením : Kand.diz.práca : V.odb. 26-11-9 : Obh. 13.04.1994 /
- Vybraná témata z fyziky povrchů : Vícevrstevné systémy a tenké organické filmy