Introduction to microlithography /

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Otros Autores: Thompson, L. F., 1944-, Willson, C. G. (C. Grant), 1939-, Bowden, M. J., 1943-
Formato: Libro
Lenguaje:inglés
Publicado: Washington, DC American Chemical Society 1994.
Edición:2nd ed.
Colección:ACS professional reference book
Materias:
Microlithography > Congresses.
Photoresists > Congresses.
Plasma etching > Congresses.
Semiconductors > Etching > Congresses.
Acceso en línea:Ver en el OPAC
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MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
005 20260127134005.0
008 050512s1994 dcua b 101 0 eng
010 |a 93-042023 
020 |a 0841228485 (alk. paper) 
035 |a vtls008153616 
035 |a 4416811 
039 9 |y 200505121357  |z mschk03 
040 |a STUSCHK1  |b slo  |c STUSCHK1 
082 0 0 |a 621.3815/31  |2 20 
245 0 0 |a Introduction to microlithography /  |c edited by Larry F. Thompson, C. Grant Willson, Murrae J. Bowden. 
250 |a 2nd ed. 
260 |a Washington, DC  |b American Chemical Society  |c 1994. 
300 |a xiv, 527 p.  |b ill.  |c 24 cm. 
440 0 |a ACS professional reference book 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
505 0 |a An introduction to lithography / Larry F. Thompson -- The lithographic process / Murrae J. Bowden -- Organic resist materials / C. Grant Willson -- Resist processing / Larry Thompson -- Plasma etching / J.A. Mucha, D.W. Hess, and E.S. Aydil. 
650 0 |a Microlithography  |x Congresses. 
650 0 |a Photoresists  |x Congresses. 
650 0 |a Plasma etching  |x Congresses. 
650 0 |a Semiconductors  |x Etching  |x Congresses. 
700 1 |a Thompson, L. F.,  |d 1944- 
700 1 |a Willson, C. G.  |q (C. Grant),  |d 1939- 
700 1 |a Bowden, M. J.,  |d 1943- 
906 |a 7  |b cbc  |c orignew  |d 1  |e ocip  |f 19  |g y-gencatlg 
910 |a SCHK95 
919 |a 0-8412-2848-5 
991 |b c-GenColl  |h TR940  |i .I57 1994  |t Copy 1  |w BOOKS 
991 |b c-GenColl  |h TR940  |i .I57 1994  |p 00015271966  |t Copy 2  |w CCF 
999 |c 1624  |d 1624 

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