Príprava tenkých vrstiev na báze AINx metódou pulzného reaktívného neprašovania = Aluminium nitride films prepared by reactive magnetron sputtering : Dipl.práca
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Ďalší autori: | |
| Médium: | Rukopis Kniha |
| Jazyk: | Slovak |
| Vydavateľské údaje: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
1999
|
| Predmet: | |
| Tagy: |
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky: Príprava tenkých vrstiev na báze AINx metódou pulzného reaktívného neprašovania = Aluminium nitride films prepared by reactive magnetron sputtering :
- Development of Zn-alloy magnetron sputter targets
- Aspects of realising a Zinc-Aluminium rotatable sputter target : Diploma thesis
- Sputtered ZnO thin films and Au nanostructures : dát. obhajoby 27.2.2019, č. ved. odboru 5-2-13
- Preparation of silicon nitride based ceramic composites with polymer derived sintering additives
- Silicon Nitride and the Sialons
- Preparation and investigation of thermochromic V-oxide film